泉州铬靶材 Cr靶材 按需定制

泉州铬靶材（Cr靶材）为高纯铬金属溅射靶材，纯度常规达99.95%及以上，可按需定制平面或旋转靶，规格涵盖直径、厚度及绑定背板工艺。产品适用于磁控溅射镀膜，常见于工具涂层、光学薄膜及半导体电极等工业场景。供货周期、起订量及价格依具体尺寸与纯度而定，建议提供图纸或技术要求以获取精准报价。质保期内确保无明显偏析、裂纹等缺陷，并符合相关工业安全与运输规范。