泉州铬靶材 Cr靶材 按需定制

泉州铬靶材采用高纯度铬原料，纯度≥99.95%，适用于真空镀膜、磁控溅射等工艺。按需定制尺寸，厚度0.5-10mm可选，表面平整度Ra≤0.2μm，确保镀膜均匀性。靶材密度≥7.19g/cm³，晶粒尺寸细小，溅射速率稳定。适用于半导体、光学镀膜等领域。建议确认具体应用参数，定制周期7-15天，提供质保书。