深圳氧化镓靶材 点击了解

深圳氧化镓靶材为高纯溅射用陶瓷靶材，纯度可达99.99%以上，适用于半导体薄膜沉积、光学镀膜及电子器件制备。常规规格包括直径2-4英寸，厚度3-6mm，支持定制异形尺寸。密度≥5.9g/cm³，晶相以β-Ga₂O₃为主，致密度高、成分均匀。建议采购时确认靶材绑定方式（铟焊或铜背板）及使用功率参数，以确保溅射稳定性。具体价格与交期需根据订单量及纯度等级与供应商进一步确认。