深圳氧化镓靶材 点击了解

深圳氧化镓靶材是半导体制造关键材料，高纯度(99.99%以上)，适用于GaN基功率器件、紫外探测器等高端电子器件薄膜沉积。采用射频磁控溅射工艺，确保薄膜均匀性与致密性，靶材密度≥99.5%。规格多样，可定制尺寸，常规厚度3-10mm。起订量1片，交期7-15天。需存储于干燥环境，防止氧化。建议根据具体应用需求选择纯度与规格，咨询专业工程师获取定制方案。