镀膜铌锆合金靶材

镀膜铌锆合金靶材是一种高性能溅射材料，主要应用于光学、电子及耐磨涂层领域。其铌锆配比可定制，常见为Nb-1%Zr至Nb-10%Zr，纯度通常达99.95%以上，确保膜层致密均匀。产品提供圆片、矩形等规格，表面粗糙度Ra≤0.5μm，致密度≥99%，适用于磁控溅射及离子镀设备。建议根据靶材尺寸及绑定方式确认交期，并关注靶材利用率与回收服务。价格随铌锆含量及尺寸浮动，采购前请核实具体参数与合规检测报告。