高纯铜靶材5N5科研用

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高纯铜靶材5N5科研级，铜含量≥99.995%，适用于科研实验与精密镀膜。其他产地，通用牌号，满足高纯度应用需求。建议确认具体规格参数与最小起订量，交期与库存请咨询供应商。工业级品质，符合科研用材标准，适用于真空镀膜、半导体制造等高精度领域。采购需注意材质纯度与批次一致性，确保实验结果可靠性。

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Технические характеристики

Подробности о продукте

高纯铜靶材5N5科研用

品名：其他；牌号：其他；产地：其他；铜含量≥：99.995；起订量：1件；发货地：陵城区

2-1 适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。

2-2 应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

3-1 材质：铜（Cu Target）。

3-2 纯度：99.99%，99.999%。