金属靶材品牌 苏州纳丰真空技术供应

苏州纳丰真空技术供应的金属靶材，适用于物理气相沉积（PVD）与溅射镀膜工艺。产品涵盖高纯度铝、铜、钛、铬等常见金属及合金靶材，纯度可达99.99%以上，表面平整度与致密度符合半导体、光学镀膜等高精度领域要求。靶材规格按客户需求定制，常用尺寸为直径50-500mm，厚度5-20mm，支持真空封装。建议根据设备腔体尺寸、膜层成分及纯度要求选择，并确认靶材纯度、密度、晶粒度等关键参数。