高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材
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¥578.99 起
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高纯度3N锰靶材，专为科研应用设计，锰含量≥99.9%，规格φ25.4×3mm，适用于薄膜沉积、材料科学研究等精密实验。该靶材具有优异的物理性能和化学稳定性，能保证实验结果的准确性和可重复性。采购时建议确认具体应用场景对杂质含量的要求，以及是否需要特殊表面处理。建议提前与供应商确认生产批次的质检报告，确保符合您的实验标准。
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Especificações
| 产地 | 其他 |
|---|---|
| 品名 | 金属锰 |
| 牌号 | 其他 |
| 规格 | φ25.4×3mm |
| 锰含量≥ | 99.9% |
Detalhes do produto
高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材
品名：金属锰；牌号：其他；产地：其他；锰含量≥：99.9%；规格：φ25.4×3mm；起订量：11件；发货期限：14天；发货地：陵城区
适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
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