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厂家京迈研磁控溅射靶材三氧化二铝靶材 Al2O3靶材镀膜蒸发料

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AI AI 产品介绍

京迈研三氧化二铝靶材(Al2O3)，北京产，纯度99.99%，杂质含量0.01%，规格10*10，重0.05kg，适用于磁控溅射镀膜工艺，为蒸发料高纯度材料，确保镀膜质量稳定，符合工业精密加工要求，适合半导体、光学等高精密领域使用，采购需确认交期与质保条款。

本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成，请以实际产品为准。

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产品详情

厂家京迈研磁控溅射靶材三氧化二铝靶材 Al2O3靶材镀膜蒸发料

品牌/厂家：京迈研；牌号：靶材；类型：三氧化二铝靶材；加工工艺：溅射；产地：北京；铝含量：99.99%；杂质含量：0.01%；规格：10*10；重量：0.05kg；起订量：1；发货地：通州区

厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料