厂家直销氧化铜靶材 CuO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研厂家直销氧化铜靶材，磁控溅射专用，规格50.8*6mm，粒度300，杂质含量0.01%。北京产陶瓷材质，牌号CuO，适用于实验场景电子束镀膜蒸发。靶材成分纯净，质量稳定，可直接用于半导体、光学薄膜等精密镀膜工艺。建议采购前确认设备匹配度，大批量订单可咨询厂家获取更优价格与交期保障。

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规格参数

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厂家直销氧化铜靶材 CuO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

品牌/厂家：京迈研；牌号：CuO；类型：靶材；材质：陶瓷；规格：50.8*6mm；产地：北京；用途：实验；主要成分：靶材；杂质含量：0.01%；粒度：300；靶材：磁控溅射靶材；发货地：通州区

氧化铜（cupric oxide），化学式CuO。是一种铜的黑色氧化物，略显两性，稍有吸湿性。相对分子质量为79.545，密度为6.3～6.9 g/cm3，熔点1026℃。

不溶于水和乙醇，溶于酸、氯化铵及氰化钾溶液，氨溶液中缓慢溶解，能与强碱反应。氧化铜主要用于制人造丝、陶瓷、釉及搪瓷、电池、石油脱硫剂、杀虫剂，也供制氢、催化剂、绿色玻璃等用。

中文名氧化铜 CAS登录号 1317-38-0

分子量 79.545 熔点 1026℃

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